拋光機(jī)的工作原理

發(fā)布日期：2021-10-27 作者：點(diǎn)擊：

　　拋光機(jī)的工作原理

　　關(guān)鍵是要獲得最大的拋光速度，以盡快去除損傷層。同時(shí)，磨光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織，即不會(huì)產(chǎn)生假組織。前者需要使用較粗的磨料以保證較大的拋光速度去除拋光損傷層，但也需要較深的拋光損傷層，后者需要使用較薄的材料使拋光損傷層變淺，但拋光速度較低。解決這一問(wèn)題的有效途徑是將拋光分為兩個(gè)階段。粗拋光的目的是去除損壞的表面層，最大限度地提高拋光速度。粗糙拋光引起的表面損傷是次要因素，但應(yīng)盡可能小，以消除粗糙拋光引起的表面損傷，最大限度地減少拋光損傷。用拋光機(jī)拋光時(shí)，樣品的研磨面和拋光盤(pán)應(yīng)平行均勻地壓在拋光盤(pán)上，并注意防止樣品因壓力過(guò)大而飛出，造成新的痕跡。同時(shí)，樣品應(yīng)沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑旋轉(zhuǎn)前后移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損過(guò)快。當(dāng)濕度過(guò)高時(shí)，拋光的磨料效應(yīng)會(huì)減弱，試樣的硬相會(huì)增加，鑄鐵中鋼和石墨相中的非金屬夾雜物會(huì)“拖曳”，潤(rùn)滑效應(yīng)會(huì)減弱，磨削表面會(huì)失去光澤，甚至出現(xiàn)黑點(diǎn)，輕合金澆注料破損表面。為了達(dá)到粗拋的目的，轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速應(yīng)低，最好不超過(guò)600r/min，拋光時(shí)間應(yīng)長(zhǎng)于刮痕去除所需時(shí)間，因?yàn)樽冃螌有枰コ?。粗糙拋光面光滑，但無(wú)光澤，在顯微鏡下觀察磨削痕跡均勻精細(xì)，待精細(xì)拋光去除。在精密拋光過(guò)程中可適當(dāng)提高轉(zhuǎn)臺(tái)的轉(zhuǎn)速，拋光時(shí)間適合粗拋光過(guò)程中破損層的去除。拋光的表面像鏡子一樣明亮。這些劃痕在顯微鏡的清晰視野中是看不到的，但在對(duì)比度照明下仍然可以看到。拋光機(jī)的質(zhì)量對(duì)樣品的結(jié)構(gòu)有很大的影響，逐漸引起了相關(guān)專(zhuān)家的注意。國(guó)內(nèi)外對(duì)拋光機(jī)的性能進(jìn)行了大量的研究工作，開(kāi)發(fā)了許多新型的拋光機(jī)和新一代的拋光設(shè)備。

拋光機(jī)